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旺宏電子:公司研發(fā)的19nmSLC閃存進(jìn)展順利 良率極佳

做為最早問(wèn)世的閃存類型,SLC閃存在性能、可靠性上是最佳的,P/E擦寫次數(shù)在1萬(wàn)到10萬(wàn)次之間,遠(yuǎn)超MLC、TLC、QLC閃存。

不過(guò)SLC閃存成本也是最高的,而且容量也不如其他的閃存類型,所以近年來(lái)應(yīng)用市場(chǎng)越來(lái)越狹窄,主流市場(chǎng)已經(jīng)銷聲匿跡,生產(chǎn)廠商也越來(lái)越少。

旺宏電子日前透露,該公司研發(fā)的19nm SLC閃存進(jìn)展順利,良率極佳,新產(chǎn)品新應(yīng)用已經(jīng)進(jìn)入驗(yàn)證階段。

旺宏表示,他們的SLC閃存率先實(shí)現(xiàn)了在主芯片處理ECC的創(chuàng)新主張,已成為最佳品質(zhì)及成本效率典范;19nm SLC NAND也取得 NAND 重要成本優(yōu)勢(shì),全面進(jìn)入業(yè)界領(lǐng)先制程。

不過(guò)旺宏電子并沒(méi)有透露SLC閃存的具體規(guī)格及產(chǎn)品信息。

除了SLC閃存,旺宏也在研發(fā)3D閃存,48層堆棧的3D閃存已經(jīng)完成研發(fā),很快會(huì)量產(chǎn),后續(xù)則會(huì)沖刺192層3D閃存。

關(guān)鍵詞: 閃存

責(zé)任編輯:Rex_01

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